研究テーマ ｜ Research theme
PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用いた磁性膜の作製
PLD(Pulsed Laser Deposition) fabricated film magnets
研究概要 ｜ Research summary
数nm～数百µm厚の成膜が可能なPLD(Pulsed Laser Deposition) 法を用いてNd-Fe-BやFe-CoといったFeを主体とした磁性膜の作製を行っています。レーザの照射条件やターゲット等を変化させることで，優れた磁気特性を有する磁性膜の作製を行っています。
作製した試料の磁気特性の測定や微細構造の観察も行っています。
We have manufactured magnetic films such as Nd-Fe-B and Fe-Co by using PLD (Pulsed Laser Deposition) method. Changing various conditions, we produce magnetic films with excellent magnetic properties.
We also measure the magnetic properties and observe the microstructure of the samples.
特色・研究成果・今後の展望
主な研究内容を以下に示します。
- PLD(Pulsed Laser Deposition)法によりMEMS応用を鑑みた希土類系厚膜磁石の開発
図a：溝入ガラス基板へ磁石膜を成膜した際の断面図 - マルチターゲットを用いた積層型ナノコンポジット磁石膜の作製
図b：マルチターゲットを用いて作製した試料の断面TEM画像 - 基板加熱成膜による異方性厚膜磁石の作製
＊下の写真に示すように，いずれも長崎県内某所で実証試験を実施中です。
社会実装への展望
PLD法により作製した磁石膜(膜厚：数µm～数百µm)は小型デバイスやMEMS分野への応用が期待できます。
企業へのメッセージ
我々は新規デバイス作製に向けた磁石膜の開発（近年Siやガラス基板への希土類磁石の成膜を実現）やサンプルの磁気特性の測定等が可能です。